离子束刻蚀机（IBE）
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发表时间：2026-03-21
利用低能平行Ar⁺离子束对基片进行物理轰击，通过掩膜选择性地溅射去除未被覆盖的材料，实现高分辨率、高陡直度的图形转移。可兼容金属、合金、半导体、绝缘体等多种材料，满足器件制造中对微细结构的关键工艺需求。
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